产品概述

　　热蒸发镀膜仪是一款高精度的实验室热蒸发镀膜设备，适用于实验室及小规模生产。该设备操作简便，专为高质量薄膜的制备而设计，能提供高均匀性和较高的纯度镀膜效果。

       由于采用了先进的热蒸发技术，能够在高真空环境下，控制镀膜的质量和厚度，适用于金属、半导体及其他材料的镀膜需求。

　　技术参数：

　　1、工作压力范围：4×10⁻ ⁵Pa

　　2、真空泵启动时间：30分钟，达到5×10⁻ ⁴Pa的真空环境

　　3、薄膜厚度均匀性：薄膜厚度的均匀性为±3%，较大偏差为±5%

　　4、膜层厚度控制精度：5%

　　5、镀膜速度：每小时12小时≤5Pa

　　6、操作时间：可调时间为0-30分钟